国产资源网,一区二区三区视频下载网站,欧美1区二区三区公司,欧美视频一区二区三区精品,A级毛片免费高清视频不卡,欧美日韩亚洲一区二区精品,久久月本道色综合久久,男女爽爽无遮挡午夜视频

          化學(xué)制備一維無機(jī)納米材料的幾種方法

          • 2012-12-06
          • 專題

          自從Iijima[1]發(fā)現(xiàn)了碳納米管,研究學(xué)者便熱衷于其他一維納米結(jié)構(gòu)的合成與表征。一維納米結(jié)構(gòu)[2~8]包括納米線、納米棒、納米管、納米帶,由于其特殊的光、電、磁、電化學(xué)等性質(zhì),被廣泛應(yīng)用于催化、電極、電子器件等。在最近幾年里,一系列重要的無機(jī)材料納米線被合成及表征,其直徑小至幾納米,長(zhǎng)度可達(dá)幾微米。而制備納米線最關(guān)鍵的因素是控制納米線的尺寸、形狀、結(jié)構(gòu)及其性能。人們采用各種方法[9]合成元素、氧化物、氮化物、碳化物、硫族化合物納米線,合成納米線方法可分為物理方法和化學(xué)方法。物理方法采用光、電技術(shù)使材料在真空或惰性氣氛中蒸發(fā),然后使原子或分子結(jié)合形成納米線,常用的方法有熱蒸發(fā)、激光燒蝕、機(jī)械球磨法等。化學(xué)方法一般采用“自下而上”的方法、即通過適當(dāng)?shù)幕瘜W(xué)反應(yīng),從分子、原子出發(fā)制備納米材料。在制備無機(jī)納米線方面,化學(xué)方法顯得更為靈活,有效,可分為溶劑熱、水熱、碳熱反應(yīng)、化學(xué)氣相沉積(CVD) 、前驅(qū)體熱分解法等。所有這些方法都是基于氣相生長(zhǎng)、溶液生長(zhǎng)兩大類,根據(jù)反應(yīng)和生長(zhǎng)條件的不同,又可細(xì)分為8 種。本文介紹了近幾年來化學(xué)制備一維無機(jī)納米材料的方法,針對(duì)各方法列舉了若干實(shí)例,并對(duì)其未來發(fā)展前景作了展望。

          1 無機(jī)納米材料合成方法

          在一維納米材料的生長(zhǎng)中最重要的是納米顆粒的結(jié)晶化過程:從一氣相、液相或固相向另一固相轉(zhuǎn)化,包含著成核和生長(zhǎng)兩個(gè)過程。當(dāng)固相的結(jié)構(gòu)單元(原子,離子或分子)的濃度足夠高時(shí),通過均相的成核作用,結(jié)構(gòu)單元集結(jié)成小核或團(tuán)簇,這些團(tuán)簇作為晶種使之進(jìn)一步生長(zhǎng)形成更大的團(tuán)簇。通過控制一維納米線的生長(zhǎng)條件,已發(fā)展了多種合成方法,歸結(jié)為氣相生長(zhǎng)、溶液生長(zhǎng)兩大類。

          1.1 氣相生長(zhǎng)

          氣相生長(zhǎng)法可在適宜的氣氛中通過簡(jiǎn)單蒸發(fā)技術(shù)制備無機(jī)材料特別是元素或氧化物納米線,具體可分為以下4 類。

          1.1.1 氣-液-固生長(zhǎng)(Vapor-liquid-solid growth)   通過含有氣-液-固過程(VLS)的氣相反應(yīng)生長(zhǎng)納米線已受到廣泛研究。單組分納米線的生長(zhǎng)一般認(rèn)為遵循VLS機(jī)理[10],即在蒸氣和生長(zhǎng)的納米線晶體之間存在由晶體成分與液相生長(zhǎng)劑( 或稱催化劑)形成的液相組分,氣相成分首先溶解于液相,并經(jīng)液相進(jìn)入固相使晶體生長(zhǎng)。Wu等[11]在制備Ge納米線的實(shí)驗(yàn)中通過原位透射電鏡觀察證實(shí)了VLS生長(zhǎng)過程可分為如圖1所示三個(gè)階段:金屬合金化、晶體成核和軸向生長(zhǎng)。根據(jù)這個(gè)機(jī)理,在液態(tài)合金或固態(tài)界面存在下可促進(jìn)各向異性晶體生長(zhǎng)。這種機(jī)制被廣泛接受并應(yīng)用于解釋包括Si和Ge在內(nèi)的各種納米線的生長(zhǎng)。此種方法合成的納米線的直徑為催化劑顆粒直徑所決定,是獲得均勻尺寸納米線的有效途徑。如在275℃下以Au納米顆粒作為晶種在SiO2/Si基底上通過化學(xué)氣相沉積(CVD)可獲得高產(chǎn)量的單晶Ge納米線[12]。據(jù)圖2(a)可知納米線直徑約為25nm,長(zhǎng)度可達(dá)數(shù)十微米,插圖為CVD之前基底上Au納米顆粒的 AFM照片。由在納米線的末端存在催化劑顆粒的事實(shí)表明,該納米線是通過VLS生長(zhǎng)機(jī)制生長(zhǎng)的。通過VLS生長(zhǎng)機(jī)理于900℃下可制備SiC納米線[13],制得的SiC 納米線的SEM如圖2(b)所示。若通過活性炭和由溶膠-凝膠法制備的表面嵌入Fe 納米顆粒的SiO2反應(yīng)可制得大量β-SiC納米線[14]。納米線直徑為10~30nm, 長(zhǎng)度可達(dá)數(shù)十微米。

          1.1.2 氧化物協(xié)助生長(zhǎng)(Oxide-assisted growth)  Lee等[15~16]發(fā)現(xiàn)當(dāng)Si粉中含有SiO2時(shí),可大大促進(jìn)Si納米線的生長(zhǎng),于是提出了SiO2促進(jìn)了Si納米線生長(zhǎng)的機(jī)理,即氧化物協(xié)助生長(zhǎng)機(jī)制,與VLS法相比,用此法合成納米線不用金屬催化劑。納米顆粒的成核過程是在底物上發(fā)生的,其反應(yīng)如下:

          在此過程中,熱蒸發(fā)產(chǎn)生的SixO(x>1)蒸汽起了重要作用。這樣的分解導(dǎo)致了Si納米顆粒的沉積,而Si顆粒則成為被SiO2所覆蓋的Si 納米線的核。沉積,成核作用和納米線的生長(zhǎng)均發(fā)生在冷的指狀區(qū)域[15,16],說明溫度梯度為納米線的形成和生長(zhǎng)提供了外在的作用力。

          1.1.3 氣-固生長(zhǎng)(Vapor-solid growth)   在采用氣-固生長(zhǎng)法(VS 法)制備一維納米晶須過程中,通過蒸發(fā)、化學(xué)還原或氣相反應(yīng)生成蒸汽,蒸汽接下來傳輸并冷凝在底物上。VS法已用于制備 ZnO、SnO2、In2O3、CdO、MgO、Ga2O和Al2O3等氧化物晶須,如果可以控制成核和生長(zhǎng)過程,那么采用VS過程合成一維納米材料將有更大的發(fā)展前景。在氧化鋯舟中,通入Ar氣,于1300℃下碳熱反應(yīng)6h可制得具有納米線和網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)的Al2O3納米材料[17]。圖2(c)由以上述過程制得的Al2O3納米結(jié)構(gòu)的SEM圖,此納米結(jié)構(gòu)與納米線相比具有更高的長(zhǎng)徑比。此種納米線生長(zhǎng)機(jī)制可以解釋為VS機(jī)制,相關(guān)的反應(yīng)如下:

          第一步反應(yīng)形成低氧化物蒸汽,接著在O2存在下被氧化為Al2O3,而O2可能是系統(tǒng)中本身就存在或是高溫下從氧化鋯中釋放而作為反應(yīng)物參加反應(yīng)。

          1.1.4 碳熱反應(yīng)(Carbothermal reaction)    通過碳熱反應(yīng)可制得一系列氧化物、氮化物、碳化物納米線。以活性炭或碳納米管與氧化物反應(yīng)先生成低氧化物蒸汽物種,該物種再與C、O2、N2或NH3反應(yīng)生成所預(yù)想的納米線,如在N2或NH3氣中加熱Ga2O3和C的混合物可制備 GaN 納米線[18]。一般情況下碳熱反應(yīng)涉及以下反應(yīng)步驟:

          以活性炭和硼酸混合物為原料在NH3氣中加熱到1300℃可制備單晶 BN 納米線[19,20]。若在Fe催化劑存在下進(jìn)行以上實(shí)驗(yàn),可獲得竹狀納米結(jié)構(gòu)(如圖 3a),竹狀納米 BN外表面上有類似毛發(fā)的形貌特征。這一反應(yīng)涉及兩個(gè)過程:一是碳還原硼酸,二是Fe催化劑促進(jìn) BN納米結(jié)構(gòu)的形成。若Fe催化劑分散于SiO2上加熱硼酸則主要得到片狀和須狀的 BN,直徑為60nm,長(zhǎng)度可達(dá)1μm。可采用碳熱反應(yīng)制備AlN納米線[21]。將摩爾比為1/1的Al和活性炭放入Al2O3舟或石英舟中置于Al2O3管中在NH3氣氣氛下1300℃加熱5h可制得AlN的納米線,其SEM(如圖 3b)。納米線的長(zhǎng)度可達(dá)數(shù)微米,直徑在50~100nm 范圍內(nèi)。AlN納米線生長(zhǎng)所涉及的反應(yīng)如下:

          碳在這個(gè)反應(yīng)中對(duì)于AlN的形成起了重要作用,碳存在下的 AlN 納米結(jié)構(gòu)的生長(zhǎng)是基于VS機(jī)制。

          1.2 溶液生長(zhǎng)法

          該納米線生長(zhǎng)法可利用各向異性生長(zhǎng),而各向異性生長(zhǎng)可通過固體材料結(jié)晶學(xué)結(jié)構(gòu)或模板設(shè)計(jì)等控制。

          1.2.1 高度各向異性的晶體結(jié)構(gòu)   固體材料聚硫氮(SN)x 生長(zhǎng)為一維納米結(jié)構(gòu),是由結(jié)構(gòu)上各向異性成鍵[22]所決定的。Se[22],Te[23],Mo的硫族化合物[24,25]易獲得納米線,這說明沿著 C-軸結(jié)晶化,是由較強(qiáng)的共價(jià)鍵大于鏈間相對(duì)較弱的范德華力這一因素所決定的。基于溶液生長(zhǎng)機(jī)制在適宜的溫度下(110℃)通過加熱回流亞硒酸和肼的混合液,可制得Se納米顆粒,而Se顆粒作為晶種促進(jìn)Se納米線的生長(zhǎng)。圖3c為所制得的三方晶系Se[26]納米線的SEM圖,其直徑在10~800nm范圍內(nèi)可調(diào),長(zhǎng)度可達(dá)數(shù)百微米。

          1.2.2 模板合成   模板合成是制備一維納米結(jié)構(gòu)有效的方法。模板具有納米孔道,如中孔材料、多孔氧化鋁膜、聚碳酸酯膜等。而陽(yáng)極氧化鋁(AAO)模板合成技術(shù)是近年發(fā)展起來的納米結(jié)構(gòu)組裝的最重要技術(shù)之一。陽(yáng)極氧化鋁膜(AAMs)是在酸性介質(zhì)中由陽(yáng)極氧化鋁片制得的,氧化鋁膜內(nèi)具有均勻尺寸二維的六方圓筒形孔隙(如圖4)[27]。它制作簡(jiǎn)單,孔徑大小在5~200nm范圍內(nèi)可調(diào),孔深達(dá)幾十到上百微米;本身耐腐蝕、高溫、絕緣;適用于制備金屬(Cu、Au、Bi)、合金(FexAg1-x)、半導(dǎo)體化合物(TiO2、In2O3、CdS、CdSe、Bi2Te3)、導(dǎo)電聚合物、碳納米管等納米組裝材料;去除AAO模板后可得到直徑大小一致的納米粒子、線、棒和管等單分散納米陣列。由于AAO在合成中僅起到一種模板作用,所以在進(jìn)行納米組裝時(shí),材料的制備仍然需要采用化學(xué)反應(yīng)等途徑來完成。而目前AAO模板的組裝方法主要有電化學(xué)沉積法、化學(xué)沉積法、化學(xué)聚合法、溶膠-凝膠法、化學(xué)氣相沉積法等。

          通過電沉積和氧化作用在六方形的有序 AAMs 納米孔道上自組裝制備有序In2O3納米線[28]。將8.5g/L InCl3和25g/LNa3C6H5O7·2H2O混合液于室溫下通三探頭直流電將銦納米線電沉積進(jìn)納米孔洞中。電沉積后,自組裝體系在不同的溫度下于空氣中加熱以形成有序In2O3 納米線陣列。圖5a為在NaOH溶液中蝕去Al后,超聲3min于AAMs模板上生長(zhǎng)起來的In2O3納米線陣列的SEM圖。如圖所示,In2O3納米線幾乎具有同樣的尺寸,均勻的嵌在 AAMs 膜上。去除 AAMs 后納米線表面不光滑,直徑分布不均勻。電子衍射分析可知得到的納米線為多晶。采用多孔氧化鋁模板合成排列整齊的單分散的B4C3納米纖維[29],圖5b 顯示納米纖維直徑250nm,長(zhǎng)達(dá)45μm。XRD和TEM分析表明1000℃下納米纖維變?yōu)闊o定形,1025℃又變?yōu)榫w。

          通過表面活性劑自組裝中間相結(jié)構(gòu)也能提供另一組更為有用的模板以制得相對(duì)大量的納米線。眾所周知,在臨界膠束濃度(LMC)時(shí),表面活性劑分子可自發(fā)形成圓柱形膠束[30](如圖 6a)。這些各向異性中間相結(jié)構(gòu)可用作為軟模板,伴隨著適宜的化學(xué)或電化學(xué)反應(yīng)以促進(jìn)納米棒的形成(如圖 6b)。有選擇的去除表面活性劑,以收集到所要納米棒或納米線(如圖6c)。基于這種原則,采用已知濃度的表面活性劑[31~32]如Na-AOT,Triton X、CTAB 等已制得CuS 、CuSe、CdS 、ZnS 、ZnSe等納米線。以晶種為媒介的生長(zhǎng)過程也可合成高產(chǎn)量長(zhǎng)徑比高達(dá)200的Au納米管[33]。首先加入檸檬酸,這涉及到Au納米顆粒的形成,接著依次加入十六烷基三甲基溴化銨(CTAB)、HAuCl4、抗壞血酸以及NaOH,通過反應(yīng)即可制得。圖(5c) 為Au納米管TEM圖。

          1.2.3 溶液-液-固過程(Solution-liquid-solid process) Buhro等[34]提出一種溶液-液-固過程(SLS法)合成Ⅲ-Ⅴ半導(dǎo)體[35]納米線晶體。在一個(gè)典型的程序中,低共熔點(diǎn)的金屬(In,Sn,Bi)可作為催化劑,通過有機(jī)金屬前驅(qū)體的熱分解反應(yīng)制得所要的材料。通過SLS過程獲得的產(chǎn)品一般為單晶須。Korge等[36]采用超臨界流體-液-固過程(SFLS 法)合成大量的無晶體缺陷的Ge、Si納米線。

          1.2.4 溶劑熱合成   溶劑熱法[37~38]以有機(jī)溶劑代替水,由于有機(jī)溶劑的多樣性,且具有較低的沸點(diǎn)和各異的介電常數(shù)、極性、粘度等,因此可根據(jù)不同的溶劑體系和目標(biāo)產(chǎn)物設(shè)計(jì)出新的合成路線,從而擴(kuò)大了水熱法的應(yīng)用范圍。在此過程中,將溶劑與金屬前驅(qū)體和晶體生長(zhǎng)調(diào)節(jié)劑或模板化試劑(如氨)的混合液置于高壓釜中維持較高的溫度或壓力以促進(jìn)晶體生長(zhǎng)和組裝過程。

          筆者通過乙二胺溶劑熱反應(yīng)制備屬立方晶系ZnS前驅(qū)體[43](ZnS?2en,en=乙二胺),然后在惰性氣氛中加熱該前驅(qū)體至一定的溫度熱分解得到單相六方晶系纖鋅礦型ZnS納米晶,二者均為納米棒構(gòu)型,Zn(en)2S的棒直徑約為30nm,ZnS的棒直徑較大,在60nm左右。

          2前景與展望

          以上主要總結(jié)了近幾年來常用的化學(xué)合成包括元素、氧化物、氮化物、碳化物、硫族化合物在內(nèi)的各族無機(jī)納米線的方法,并對(duì)其生長(zhǎng)機(jī)理、結(jié)構(gòu)進(jìn)行了探討。目前,合成高質(zhì)量、尺寸可控的無機(jī)納米線這一研究領(lǐng)域還相當(dāng)活躍。毫無疑問,可以預(yù)見將會(huì)有更多的無機(jī)納米線被合成及表征,新的材料合成方法也會(huì)不斷的涌現(xiàn),化學(xué)方法在制備一維無機(jī)納米材料上將有著更為廣闊的前景。但目前各類方法多是經(jīng)驗(yàn)總結(jié),并在此基礎(chǔ)上推測(cè)出部分反應(yīng)機(jī)理,如能對(duì)反應(yīng)機(jī)理進(jìn)行更深入的研究,并找到普遍適用的方法,那將會(huì)極大的推動(dòng)化學(xué)合成無機(jī)納米線方面的發(fā)展。

          參考文獻(xiàn)

          [1]  S Iijima. Nature, 1991, 354: 56~58.

          [2]  T T Albrecht, J Schotter, G A K?stle. Science, 2000, 290: 2126~2129.

          [3]  M P Zach, K H Ng, R M Penner. Science, 2000, 290: 2120~2123.

          [4]  M H Huang, S Mao, H Feick et al. Science, 2001, 292:1897.

          [5]  Z W Pan, Z R Dai, Z L Wang. Science, 2001, 291: 1947~1949.

          [6]  Y Huang, X Duan, Q Q Wei. Science, 2001, 291: 630~633.

          [7]  Y Cui, C M Lieber. Science, 2001, 291: 851~853.

          [8]  Y Huang, X Duan, Y Cui. Science, 2001, 294: 1313~1317.

          [9]   H Vincent, F Chassagneux, C Vincent et al. J. Mat. Sci. Eng. A, 2003, 340: 181~192.

          [10]   T J Trentkr, K N Hickman, S C Goel. Science, 1995, 270: 1791.

          [11]   Y Wu, P Yang. J. Am. Chem. Soc., 2001, 123: 3165~3166.

          [12]   D Wang, H Dai. Angew. Chem. Int. Ed., 2002, 114:4977~4980.

          [13]   W Shi, Y Zheng, H Peng et al. J. Am. Chem. Soc., 2000, 83:3228~3230.

          [14]   C H Liang, G W Meng, L D Zhang et al. Chem. Phys. Lett., 2000, 329: 323~328.

          [15]   S T Lee, N Wang, Y F Zhang et al. MRS Bull. 1999: 36~42.

          [16]   N Wang, Y H Tang, Y F Zhang et al. Phys. Rev B., 1998, 58: R16024~16026.

          [17]   G Gundiah, F L Deepak, A Govindaraj et al. Topics in Cat., 2003, 24: 137~46.

          [18]   H Y Peng, X T Zhou, N Wang et al. Chem. Phys. Lett., 2000, 327:263~270.

          [19]   F L Deepak, C P Vinod, K Mukhopadhyay et al. Chem. Phys. Lett., 2002, 353: 345~352.

          [20]   F L Deepak, G Gundiah, A Govindaraj et al. Bull Polish. Acad. Sci., 2002, 50: 165~174.

          [21]   C N R Rao, F L Deepak, A Govindaraj, J. Mater. Chem., 2004, 14(4): 440~450.

          [22]   B Gates, B Mayers, B Cattle et al. Adv. Funct. Mater., 2002, 12: 219~227.

          [23]   B Mayers, Y Xia. J. Mater. Chem., 2002, 12: 1875~1881.

          [24]   B Messer, J H Song, M Huang et al. Adv. Mater., 2000, 12:1 526~1528;

          [25]   J Song, B Messer, Y Wu et al. J. Am. Chem. Soc., 2001, 123: 9714~9715.

          [26]   B Gates, B Mayers, B Cattle et al. Adv. Funct. Mater., 2002, 12: 219~227

          [27]   M Zheng, L Zhang, X Zhang et al. Chem. Phys. Lett., 2001, 334: 298~302.

          [28]   M J Zheng, L D Zhang, G H Li et al. Appl Phys Lett., 2001, 79: 839~841.

          [29]   M Pender, L Sneddon. Chem. Mater., 2000, 12: 280~283.

          [30]   Y Xia, P Yang, Y Sun et al. Adv. Mater., 2003, 15: 353~389.

          [31]   C N R Rao, A Govindaraj, F L Deepak et al. Appl. Phys. Lett., 2001, 78: 1853~1855.

          [32]   A Govindaraj, F L Deepak, N A Gunari et al. Israel J. Chem., 2001, 41: 23~30.

          [33]   B D Busbee, S O Obare, C J Murphy. Adv. Mater., 2003, 15: 414~416.

          [34]   T J Trentler, K M Hickman, S C Geol et al. Science, 1995, 270: 1791~1794.

          [35]   P D Markowitz, M P Zach, P C Gibbons et al. J. Am. Chem. Soc., 2001, 123: 4502~4511.

          [36]   J D Holmes, K P Johnston, R C Doty et al. Science, 2000, 287: 1471~1473.

          [37]   J Li, Z Chen, R J Wang et al. Coordination Chemistry Reviews, 1999, 190: 707~735.

          [38]   G Q Li, H Z Zhong, Z Chen et al. Semiconductor Photonics and Technology, 2004, 10(4): 256~259.

          注:本文為提供者整理翻譯的,由于知識(shí)所限,錯(cuò)誤在所難免,敬請(qǐng)?jiān)彙H缬袉栴}可以查找原文。