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    	          物競編號
    	          1D5A

    	        
          
    	        
          
    	          分子式
    	          XeF4
    	        
          
    	        
          
    	          分子量
    	          207.284
    	        
          
			    
          
    	          標(biāo)簽
    	          
                      
                        暫無
                      
                  
    	        
          
    	                
    	    
          
    	
          
    
          
    
          
        
    
          
    
          
    	
          編號系統(tǒng)
          
    	
          CAS號：13709-61-0
          
        
          MDL號：暫無
          
        
          EINECS號：237-251-2
          
        
          RTECS號：ZE1294166
          
        
          BRN號：暫無
          
        
          PubChem號：暫無
          

    	
          物性數(shù)據(jù)
          
    	
          
    		
          1.性狀：四氟化氙的分子構(gòu)型為平面四邊形，無色單斜晶系結(jié)晶。
          2.密度（g/cm3）：4.04。
          3.熔點(diǎn)（℃）：117.1。
          
    	
          
    	
          毒理學(xué)數(shù)據(jù)
          
    	
          
    		暫無
    	
          
    	
          生態(tài)學(xué)數(shù)據(jù)
          
    	
          
    		暫無
    	
          
    	
          分子結(jié)構(gòu)數(shù)據(jù)
          
    	
          
    		暫無
    	
          
    	
          計(jì)算化學(xué)數(shù)據(jù)
          
    	
          
    		
          1.疏水參數(shù)計(jì)算參考值（XlogP）:無
          2.氫鍵供體數(shù)量:0
          3.氫鍵受體數(shù)量:4
          4.可旋轉(zhuǎn)化學(xué)鍵數(shù)量:0
          5.互變異構(gòu)體數(shù)量:無
          6.拓?fù)浞肿訕O性表面積0
          7.重原子數(shù)量:5
          8.表面電荷:0
          9.復(fù)雜度:19.1
          10.同位素原子數(shù)量:0
          11.確定原子立構(gòu)中心數(shù)量:0
          12.不確定原子立構(gòu)中心數(shù)量:0
          13.確定化學(xué)鍵立構(gòu)中心數(shù)量:0
          14.不確定化學(xué)鍵立構(gòu)中心數(shù)量:0
          15.共價(jià)鍵單元數(shù)量:1
          
    	
          
    	
          性質(zhì)與穩(wěn)定性
          
    	
          
    		
           
          
    	
          
    	
          貯存方法
          
    	
          
    		暫無
    	
          
    	
          合成方法
          
    	
          
    		
          制備XeF4的常用方法是在鎳反應(yīng)器中加熱氙和氟的混合氣體，并使原料氣中F2/Xe比為5∶1，在400℃的溫度下反應(yīng)1h，反應(yīng)完成后使反應(yīng)器迅速冷卻，但產(chǎn)物中混有一些XeF6和XeF2。
          制法 以氙和二氟化二氧在低溫低壓下反應(yīng)制備四氟化氙。
          反應(yīng)中所用不銹鋼容器和真空管線預(yù)先用ClF3和XeF6進(jìn)行鈍化處理，然后抽真空一整天。O2F2直接由F2和O2合成，此光化學(xué)合成反應(yīng)在裝有藍(lán)寶石窗的銅反應(yīng)器中進(jìn)行，混合氣體中F2和O2的配比為1∶1。
          在-196℃的溫度下，將約0.4g氙和大過量的(10倍或更多)O2F2冷凝在一容積為35mL的圓柱形不銹鋼反應(yīng)器中，接著將反應(yīng)器置于-155℃的冷浴(CF2Cl2/液氮)中，并慢慢升溫，使溫度在2～4h內(nèi)達(dá)到-120℃。隨后將反應(yīng)器置于裝有干冰的杜瓦瓶中，并控制溫度為-78℃，保持在此溫度下過夜，在此期間過剩的O2F2分解為O2和F2，揮發(fā)性的物質(zhì)通過一冷卻至-196℃的冷阱，其中O2和F2被除去，此冷阱中也會有一些白色的固體物質(zhì)。將-196℃的杜瓦瓶換成-78℃的杜瓦瓶，繼續(xù)抽真空1h，產(chǎn)物中混有的CF4，COF2和SiF4等雜質(zhì)即被除去。剩余的固體物質(zhì)為XeF4和XeF2的混合物。按照上面所述的同樣方法，再用O2F2與XeF4和XeF2的混合物反應(yīng)，最后氙幾乎是定量地轉(zhuǎn)化為XeF4。
          
    	
          
    	
          用途
          
    	
          
    		
          四氟化氙是穩(wěn)定的化合物，可長期儲存在鎳容器中，是一種很強(qiáng)的氧化劑和氟化劑，與水劇烈反應(yīng)生成Xe,O2,HF和XeO3。
          
    	
          
    	
          安全信息
          
    	
          危險(xiǎn)運(yùn)輸編碼：UN 3087 5.1/PG 2
          
    	
          危險(xiǎn)品標(biāo)志：極毒 氧化劑 
          
    	
          安全標(biāo)識：S17 S26 S28 S45 S36/S37/S39 
          
    	
          危險(xiǎn)標(biāo)識：R8 R25 R26 R34 
          
        
          文獻(xiàn)
          
        
          
            暫無
        
          
        
          備注
          
        
          
            暫無
        
          
    	
          表征圖譜