結(jié)構(gòu)式
| 物競(jìng)編號(hào) | 1D58 |
|---|---|
| 分子式 | XeO3 |
| 分子量 | 179.288 |
| 標(biāo)簽 | 暫無(wú) |
CAS號(hào):13776-58-4
MDL號(hào):暫無(wú)
EINECS號(hào):暫無(wú)
RTECS號(hào):暫無(wú)
BRN號(hào):暫無(wú)
PubChem號(hào):暫無(wú)
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無(wú)色易潮解的固體,斜方晶系結(jié)晶,有強(qiáng)烈的爆炸性,但在干燥的空氣中較穩(wěn)定。密度4.55g/cm3,溶于水,在水溶液中是很強(qiáng)的氧化劑,在稀酸性溶液中是穩(wěn)定的,在中性或堿性溶液中慢慢分解為Xe和O2,存在于堿中時(shí)為HXeO-4,在強(qiáng)堿中可形成Na4XeO6·xH2O。
暫無(wú)
如圖所示 制備三氧化氙和高氙酸鈉的裝置
A—Pyrex玻璃筒;B—主反應(yīng)瓶;C—球形
燒瓶;D—連接管;E—燒瓶底部小孔;
F—三通;G—儲(chǔ)存管;H—U形冷阱
用六氟化氙水解生成三氧化氙是傳統(tǒng)的制備方法,有時(shí)也用四氟化氙水解歧化來(lái)制取三氧化氙,但這兩個(gè)反應(yīng)都進(jìn)行得很劇烈,并容易發(fā)生爆炸,下述的制備方法較安全。
制法 制備三氧化氙的實(shí)驗(yàn)裝置如圖所示,此裝置同時(shí)也用來(lái)制備高氙酸鈉。
圖中A為儲(chǔ)存二氟磷酸的有刻度的Pyrex玻璃筒,此玻璃筒用一玻璃閥門與系統(tǒng)相連,一個(gè)倒置的球形燒瓶C用一個(gè)3/8英寸的連接管D連接到主反應(yīng)瓶B上,在倒置的燒瓶C的底部有一孔E,在制備高氙酸鈉時(shí)可以從這里引入NaOH溶液。XeF6從儲(chǔ)存管G中通過(guò)一個(gè)聚三氟氯乙烯的T形連接管輸送到主反應(yīng)器中,安裝在裝置上的聚三氟氯乙烯的U形冷阱H可以很容易的與XeF6儲(chǔ)存管G相互替換。
150mL的反應(yīng)瓶B加熱干燥并抽空,通過(guò)真空系統(tǒng)使0.83g XeF6從儲(chǔ)存管G中轉(zhuǎn)移到反應(yīng)瓶中,并用液氮使其冷卻到-195℃,在瓶底形成一個(gè)直徑約3cm固體片,轉(zhuǎn)移完后關(guān)閉反應(yīng)瓶與真空系統(tǒng)的隔離閥,取下儲(chǔ)存管G換上U形冷阱H。打開反應(yīng)瓶及HOPOF2儲(chǔ)存筒A與真空系統(tǒng)的隔離閥,使約1.2mL HOPOF2冷凝在XeF6之上,然后將HOPOF2儲(chǔ)存筒A從系統(tǒng)中拆除,以減小萬(wàn)一發(fā)生爆燃所造成的損失。將反應(yīng)瓶直接升溫到22℃,XeF6溶于HOPOF2而形成黃綠色的溶液。用0℃的冷浴冷卻反應(yīng)瓶,而U形冷阱則用液氮冷卻至-195℃。在大約0℃時(shí),反應(yīng)瓶中開始強(qiáng)烈鼓泡,幾乎瞬間即沉淀出白色的XeO3結(jié)晶。慢慢將剩余的HOPOF2、HF和OPF3抽出,直至沒(méi)有明顯的氣體揮發(fā)出來(lái)為止。反應(yīng)瓶中留下的結(jié)晶即為XeO3產(chǎn)品。
用作氧化劑。
危險(xiǎn)運(yùn)輸編碼:暫無(wú)
危險(xiǎn)品標(biāo)志:暫無(wú)
安全標(biāo)識(shí):暫無(wú)
危險(xiǎn)標(biāo)識(shí):暫無(wú)
None
None
共收錄化學(xué)品數(shù)據(jù)
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