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    	          物競編號
    	          14SE

    	        
          
    	        
          
    	          分子式
    	          CF4
    	        
          
    	        
          
    	          分子量
    	          88.00
    	        
          
			    
          
    	          標(biāo)簽
    	          
                      
                        四氟甲烷,
                      
                        四氟甲烷四氟化碳,
                      
                        Tetraflouro methane,
                      
                        低溫制冷劑,
                      
                        潤滑劑,
                      
                        紅外檢波管的冷卻劑,
                      
                        鹵代烴類溶劑,
                      
                        電子特種氣體原料及中間體
                      
                  
    	        
          
    	                
    	    
          
    	
          
    
          
    
          
        
    
          
    
          
    	
          編號系統(tǒng)
          
    	
          CAS號：75-73-0
          
        
          MDL號：MFCD00000371
          
        
          EINECS號：200-896-5
          
        
          RTECS號：FG4920000
          
        
          BRN號：暫無
          
        
          PubChem號：24857807
          

    	
          物性數(shù)據(jù)
          
    	
          
    		
          1.性狀：無色無味氣體[1]
          2.熔點（℃）：-183.6[2]
          3.沸點（℃）：-127.8[3]
          4.相對密度（水=1）：1.96（-184℃）[4]
          5.相對蒸氣密度（空氣=1）：3.04[5]
          6.飽和蒸氣壓（kPa）：13.33（-150.7℃）[6]
          7.臨界溫度（℃）：-45.5[7]
          8.臨界壓力（MPa）：3.74[8]
          9.辛醇/水分配系數(shù)：1.18[9]
          10.溶解性：不溶于水，溶于苯和氯仿。[10]
          11.臨界密度（g·cm-3）：0.626
          12.臨界體積（cm3·mol-1）：141
          13.臨界壓縮因子：0.279
          14.van der Waals面積（cm2·mol-1）：4.600×109
          15.van der Waals體積（cm3·mol-1）：27.330
          16.Lennard-Jones參數(shù)（A）：4.5306
          17.Lennard-Jones參數(shù)（K）：158.90
          18.氣相標(biāo)準(zhǔn)聲稱熱(焓)( kJ·mol-1) ：-933.5
          19.氣相標(biāo)準(zhǔn)熵(J·mol-1·K-1) ：261.40
          20.氣相標(biāo)準(zhǔn)生成自由能( kJ·mol-1)：-888.8
          21.氣相標(biāo)準(zhǔn)熱熔(J·mol-1·K-1)：61.05
          
    	
          
    	
          毒理學(xué)數(shù)據(jù)
          
    	
          
    		
          1.急性毒性  暫無資料
          2.刺激性  暫無資料
          3.其他[11]  LCLo：895000ppm（大鼠吸入，15min）
          
    	
          
    	
          生態(tài)學(xué)數(shù)據(jù)
          
    	
          
    		
          1.生態(tài)毒性  暫無資料
          2.生物降解性  暫無資料
          3.非生物降解性  暫無資料
          4.其他有害作用[12]  溫室氣體，其造成溫室效應(yīng)的作用是二氧化碳的數(shù)千倍。氟代烴的低層大氣中比較穩(wěn)定，而在上層大氣中可被能量更大的紫外線分解。
          
    	
          
    	
          分子結(jié)構(gòu)數(shù)據(jù)
          
    	
          
    		
          1、摩爾折射率：7.3
          2、摩爾體積（cm3/mol）：66.8
          3、等張比容（90.2K）：105.0
          4、表面張力（dyne/cm）：6.0
          5、介電常數(shù)：無可用
          6、偶極距（10-24cm3）：無可用
          7、極化率：2.89
          
    	
          
    	
          計算化學(xué)數(shù)據(jù)
          
    	
          
    		
          1.疏水參數(shù)計算參考值（XlogP）:1.8
          2.氫鍵供體數(shù)量:0
          3.氫鍵受體數(shù)量:4
          4.可旋轉(zhuǎn)化學(xué)鍵數(shù)量:0
          5.互變異構(gòu)體數(shù)量:無
          6.拓?fù)浞肿訕O性表面積0
          7.重原子數(shù)量:5
          8.表面電荷:0
          9.復(fù)雜度:19.1
          10.同位素原子數(shù)量:0
          11.確定原子立構(gòu)中心數(shù)量:0
          12.不確定原子立構(gòu)中心數(shù)量:0
          13.確定化學(xué)鍵立構(gòu)中心數(shù)量:0
          14.不確定化學(xué)鍵立構(gòu)中心數(shù)量:0
          15.共價鍵單元數(shù)量:1
          
    	
          
    	
          性質(zhì)與穩(wěn)定性
          
    	
          
    		
          常溫常壓下穩(wěn)定，避免強(qiáng)氧化劑、易燃或可燃物。不燃?xì)怏w，遇高熱后容器內(nèi)壓增大，有開裂、爆炸危險。化學(xué)性質(zhì)穩(wěn)定，不燃。常溫下只有液氨-金屬鈉試劑能發(fā)生作用。
          
    	
          
    	
          貯存方法
          
    	
          
    		
          儲存注意事項[13] 儲存于陰涼、通風(fēng)的不燃?xì)怏w專用庫房。遠(yuǎn)離火種、熱源。庫溫不宜超過30℃。應(yīng)與易（可）燃物、氧化劑分開存放，切忌混儲。儲區(qū)應(yīng)備有泄漏應(yīng)急處理設(shè)備。
          
    	
          
    	
          合成方法
          
    	
          
    		
          1.由碳與氟反應(yīng)，或一氧化碳與氟反應(yīng)，或碳化硅與氟反應(yīng)，或氟石與石油焦在電爐里反應(yīng)，或二氟二氯甲烷與氟化氫反應(yīng)，或四氯化碳與氟化銀反應(yīng)，或四氯化碳與氟化氫反應(yīng)，都能生成四氟化碳。四氯化碳與氟化氫的反應(yīng)在填有氫氧化鉻的高溫鎳管中進(jìn)行，反應(yīng)后的氣體經(jīng)水洗、堿洗除去酸性氣體，再通過冷凍，用硅膠除去氣體中的水分，最后經(jīng)精餾而得成品。
          2.預(yù)先稱取5～10g的碳化硅粉末和0.1g的單質(zhì)硅粉，置于鎳盤中，使硅和碳化硅充分接觸后，將鎳盤放入蒙乃爾合金反應(yīng)管中，向反應(yīng)管內(nèi)通入氟氣，氟氣先和單質(zhì)硅反應(yīng)，反應(yīng)放熱后，氟開始和碳化硅進(jìn)行反應(yīng)，通入等體積的干燥氮氣以稀釋氟氣，使反應(yīng)繼續(xù)進(jìn)行，生成氣體通過液氮冷卻的鎳制捕集器冷凝，然后慢慢地氣化后，將其通過裝有氫氧化鈉溶液的洗氣瓶除去四氟化硅，隨后通過硅膠和五氧化二磷干燥塔得到最終產(chǎn)品。
          3.以活性炭與氟為原料經(jīng)氟化反應(yīng)制備。在裝有活性炭的反應(yīng)爐中，緩緩?fù)ㄈ敫邼夥鷼猓⑼ㄟ^加熱器加熱、供氟速率和反應(yīng)爐冷卻控制反應(yīng)溫度。產(chǎn)品經(jīng)除塵，堿洗除去HF、CoF2、SiF4、CO2等雜質(zhì)、再經(jīng)脫水可獲得含量約為85%的粗品。將粗品引入低溫精餾釜中進(jìn)行間歇粗餾，通過控制精餾溫度，除去O2、N2、H2，得到高純CF4。
          
    	
          
    	
          用途
          
    	
          
    		
          1.用于各種集成電路的等離子刻蝕工藝，也用作激光氣體，用于低溫制冷劑、溶劑、潤滑劑、絕緣材料、紅外檢波管的冷卻劑。
          2.是目前微電子工業(yè)中用量最大的等離子蝕刻氣體，四氟甲烷高純氣及四氟甲烷高純氣、高純氧的混合氣，可廣泛應(yīng)用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及鎢等薄膜材料的蝕刻，在電子器件表面清洗、太陽能電池生產(chǎn)、激光技術(shù)、低溫制冷、泄漏檢驗、印刷電路生產(chǎn)中的去污劑等方面也大量使用。
          3.用作低溫制冷劑及集成電路的等離子干法蝕刻技術(shù)。[14]
          
    	
          
    	
          安全信息
          
    	
          危險運輸編碼：UN 1982 2.2
          
    	
          危險品標(biāo)志：暫無
          
    	
          安全標(biāo)識：暫無
          
    	
          危險標(biāo)識：暫無
          
        
          文獻(xiàn)
          
        
          
            [1~14]參考書：危險化學(xué)品安全技術(shù)全書.第一卷/張海峰主編.—2版.北京；化學(xué)工業(yè)出版社，2007.6 ISBN 978-7-122-00165-8
        
          
        
          備注
          
        
          
            暫無
        
          
    	
          表征圖譜